高真空镀膜仪是把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜。

样品要求

离子溅射电流15-150mA连续可调，厚度1-1000nm

脉冲碳丝蒸发（专利） 镀膜厚度：1-100nm可调

磁性不可测试，三方向电动马达驱动样品台

精密增加试样表面导电膜！

具体加工要求需和技术顾问提前沟通确认后再预约测试

制备样品。